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因瓦合金采用電解拋光方法有哪些優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)

因瓦合金具有很低的平均線熱膨脹系數(shù),廣泛應(yīng)用于無(wú)線電,精密儀表,儀器等行業(yè)。高強(qiáng)度因瓦合金作為電力電纜材料,其需求量日益增長(zhǎng)。它不僅要求具有較高的強(qiáng)度特性,而且要求具有優(yōu)良的抗扭轉(zhuǎn)特性。


因瓦合金的力學(xué)性能與物理性能與熱軋、固溶、拉拔、時(shí)效等工藝過(guò)程中的晶體學(xué)特征息息相關(guān),如晶粒大小、晶界特性、織構(gòu)類型與分布、組織轉(zhuǎn)變、再結(jié)晶情況等。電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)是在材料精細(xì)組織結(jié)構(gòu)分析上的重要手段,而EBSD樣品制備成為影響最終分析結(jié)果的重要因素。因瓦合金試樣在加工與制備過(guò)程中產(chǎn)生的表面應(yīng)力層,使得獲得的衍射花樣質(zhì)量差,標(biāo)定率低。電解拋光技術(shù)是效率最高,重復(fù)性最好的去除表面應(yīng)力的一種手段,但是獲得合適的拋光液及工藝參數(shù)比較困難。

因瓦合金


一、因瓦合金電解拋光方法如下:

將熱軋因瓦合金盤條(Φ8)樣品的縱截面先進(jìn)行機(jī)械打磨,經(jīng)機(jī)械拋光后用水酒精清洗,吹干。選用分析純C3H8O2:HClO4:C2H5OH=1:2:22(體積比)配置電解拋光液。將電解拋光液置于電解槽中,電解前將液氮倒入電解槽中,直至電解拋光液的溫度降低至5℃。樣品為陽(yáng)極,不溶性金屬為陰極,設(shè)置拋光電壓為40V,拋光時(shí)間為15s,并對(duì)電解液進(jìn)行磁力攪拌。電解拋光完畢的樣品立刻用水清洗,再經(jīng)酒精清洗后,烘干即可。本實(shí)施例所得試樣表面平整、光潔、無(wú)變形層,標(biāo)定率達(dá)99%,為熱軋因瓦合金盤條縱截面的EBSD 的花樣質(zhì)量圖。

因瓦合金

二、因瓦合金電解拋光方法優(yōu)勢(shì)

其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17~22的體積比混合而成。電方法采用上述的電解拋光液,因瓦合金試樣置于電解拋光液中作為陽(yáng)極,不溶性金屬為陰極;電解拋光液的溫度為0℃~10℃,拋光電壓為30~40V,對(duì)因瓦合金試樣進(jìn)行電解拋光。

1、采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:配制簡(jiǎn)單,拋光效果好,試樣表面平整、光潔、無(wú)明顯變形層,可多次使用。能有效去除表面的應(yīng)力層,有效地提升電解拋光質(zhì)量,得到高標(biāo)定率的電子衍射花

2、能有效的去除樣品表面的應(yīng)力層,試樣表面平整、光潔、無(wú)變形層,有利于EBSD測(cè)試時(shí)產(chǎn)生強(qiáng)的衍射花樣,獲得高的標(biāo)定率,以便于對(duì)因瓦合金進(jìn)行晶界特征、織構(gòu)、應(yīng)力等微觀組織結(jié)構(gòu)的研究。


由上可見(jiàn)因瓦合金采用電解拋光方法非常有利因瓦合金產(chǎn)品,這種方法對(duì)因瓦合金材料在使用精密儀表,儀器等行業(yè)上有非常重要的影響,對(duì)這些產(chǎn)品的使用和性能提升都有很好的幫助。目前因瓦合金材料的供應(yīng),對(duì)整個(gè)行業(yè)的發(fā)展都有很深的影響,充足的因瓦合金材料供應(yīng)是市場(chǎng)發(fā)展重要因素。



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